+高级检索
硫酸石墨层间化合物的溶出伏安行为研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

基金项目:


Quasi Stripping Analysis for Sulfuric Acid-Graphite
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
    摘要:

    用溶出伏安法研究硫酸石墨层间化合物H2SO4中的慢扫描溶出行为,发现随着中间富集过程的变化其溶出结果呈规律性变化,特别是在18mol/LH2SO4中,低电位分段富集时,其溶出峰较同电位一次富集的溶出峰要宽和广,这个发现将导致生产出低残余化合物含量的柔性石墨密封材料。

    Abstract:

    By the means of quasi-stripping analysis,a study of slow linear sweephas been applied to the H_2SO_4-GIC,prepared by anodic oxidation forgraphite in sulfuricionization. Different stripping results are found on the condition of changing interpre-electrolys

    参考文献
    相似文献
    引证文献
文章指标
  • PDF下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 摘要点击次数:
  • 引用次数:
引用本文

陈宗璋 陈剑平.硫酸石墨层间化合物的溶出伏安行为研究[J].湖南大学学报:自然科学版,1995,22(4):

复制
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
作者稿件一经被我刊录用,如无特别声明,即视作同意授予我刊论文整体的全部复制传播的权利,包括但不限于复制权、发行权、信息网络传播权、广播权、表演权、翻译权、汇编权、改编权等著作使用权转让给我刊,我刊有权根据工作需要,允许合作的数据库、新媒体平台及其他数字平台进行数字传播和国际传播等。特此声明。
关闭