报道了瓦特型镍-碳化硅复合电沉积过程,研究了SiC微粒的表面活性剂处理、粒子浓度、阴极电流密度、搅拌和pH值等因素对镀层硬度和耐磨性的影响.结果表明:在最佳的工艺条件下,可制备出性能优良的复合镀层(9%~10%SiC含量),其硬度是纯Ni的4~5倍,耐磨性是纯Ni的5~6倍.
黄辉,林志成,阳范文.镍-碳化硅复合电镀的研究[J].湖南大学学报:自然科学版,1996,23(4):