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双层量子点阵列浮栅结构纳米存储器
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湖南大学科学基金资助项目(521101805);湖南大学人才基金资助项目(521105008)


Ge/Si Double-Layer Quantum-Dots Floating-Gate Nano-Memory
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    设计了一种新型的存储器结构单元——锗/硅双层量子点阵列浮栅结构纳米存储器.对存储器样品的C—V测量结果显示了这种结构的P沟道器件有着更加优异的存储性能.数值模拟表明了该器件的编程速度在微秒量级,而保留时间长达10年(约10^8S).这种新型的存储器结构单元有效地解决了目前硅基纳米存储器存在的工作电压和长久存储之间的矛盾,为硅基纳米存储器的实用化拓宽了道路.

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杨红官 周少华 曾云 施毅.双层量子点阵列浮栅结构纳米存储器[J].湖南大学学报:自然科学版,2005,32(6):

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