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Fe-B合金化学沉积的影响因素分析
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湖南省自然科学基金资助项目(05JJ30089)


Analysis of the Effects on the Deposition of Electroless Fe-B Film
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    通过化学沉积法制备Fe-B化学镀层,用电化学方法分析了偶接铝、镀液组分和沉积工艺对Fe-B化学沉积行为的影响.结果表明,偶接铝使体系的沉积电位负移,降低了Fe-B合金化学沉积的极化阻力,特别是金属离子还原的极化阻力,从而诱导Fe-B的化学沉积.镀层的沉积速率依赖于镀液组分和沉积工艺.

    Abstract:

    Fe-B films were prepared by electroless deposition on brass substrate coupled with aluminum from the sulphate bath.The deposition behavior of Fe-B film was investigated by electrochemical and gravimetrical measurements.The results showed that the coupled

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黄桂芳,黄维清,王玲玲,朱一村,王巧玲,张建辉. Fe-B合金化学沉积的影响因素分析[J].湖南大学学报:自然科学版,2007,34(1):

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